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超薄氮化鎵制備及其光學(xué)性質(zhì)

摘要:超薄氮化鎵(GaN)是一種厚度在納米尺度的少層GaN薄片,相對(duì)于GaN體材料,量子限域效應(yīng)會(huì)使超薄GaN的禁帶寬度增大,超薄GaN有望應(yīng)用于深紫外電子器件。通過(guò)使用微機(jī)械剝離法將制備出的少層硒化鎵(GaSe)薄片(厚度為1~10 nm)與塊狀GaSe作為前驅(qū)體,氨氣作為氮源,在管式爐中不同溫度下退火進(jìn)行氨化,得到超薄GaN及塊狀GaN。通過(guò)X射線衍射、掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡、光致發(fā)光光譜及拉曼光譜對(duì)氨化后樣品的形貌、成分、光學(xué)特性進(jìn)行了表征。結(jié)果表明,超薄GaN的光學(xué)帶隙比塊狀GaN大0.16 eV,拉曼光譜中的縱模光學(xué)峰也會(huì)隨著超薄GaN的厚度減小發(fā)生藍(lán)移。

關(guān)鍵詞:
  • gase  
  • 氨化  
  • 光學(xué)帶隙  
作者:
程亮亮; 劉爭(zhēng)暉; 徐耿釗; 鐘海艦; 張春玉; 陳科蓓; 宋文濤; 徐科
單位:
中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)納米技術(shù)與納米仿生學(xué)院; 合肥230026; 中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所; 江蘇蘇州215123
刊名:
半導(dǎo)體技術(shù)

注:因版權(quán)方要求,不能公開(kāi)全文,如需全文,請(qǐng)咨詢(xún)雜志社

期刊名稱(chēng):半導(dǎo)體技術(shù)

半導(dǎo)體技術(shù)雜志緊跟學(xué)術(shù)前沿,緊貼讀者,國(guó)內(nèi)刊號(hào)為:13-1109/TN。堅(jiān)持指導(dǎo)性與實(shí)用性相結(jié)合的原則,創(chuàng)辦于1976年,雜志在全國(guó)同類(lèi)期刊中發(fā)行數(shù)量名列前茅。