摘要：超聲速冷卻氣膜是應(yīng)用于高超聲速成像制導(dǎo)飛行器上的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),靜壓比是影響超聲速冷卻氣膜流場(chǎng)發(fā)展的重要因素。為研究靜壓比對(duì)該流場(chǎng)的影響規(guī)律,在M6高超聲速風(fēng)洞中采用基于納米粒子的平面激光散射技術(shù),對(duì)不同靜壓比下的馬赫數(shù)3超聲速冷卻氣膜流場(chǎng)進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究,獲得了流場(chǎng)的瞬態(tài)流動(dòng)顯示圖像。通過瞬態(tài)流動(dòng)顯示圖像分析,研究了高超聲速主流與超聲速噴流之間邊界面的發(fā)展過程;通過分形維數(shù)及間歇性分析,研究了靜壓比對(duì)湍流化程度的影響。結(jié)果表明在波系結(jié)構(gòu)、噴流厚度及湍流化程度等方面,靜壓比對(duì)超聲速冷卻氣膜產(chǎn)生了明顯的影響:氣膜總體厚度和靜壓比正相關(guān),欠壓狀態(tài)和匹配狀態(tài)氣膜厚度增長(zhǎng)先慢后快,過壓狀態(tài)先快后慢;欠壓狀態(tài)和匹配狀態(tài)湍流破碎因子在流場(chǎng)前段普遍小于過壓狀態(tài),但其沿流向增長(zhǎng)較快,最終壓力匹配狀態(tài)湍流破碎因子最大,湍流化程度最高。