摘要：采用脈沖磁控濺射在YG10硬質(zhì)合金基體上制備Ta-C(Tetrahedral amorphous carbon)涂層,通過(guò)控制石墨靶濺射時(shí)間制備得到不同性能的Ta-C涂層,采用掃描顯微鏡、納米壓痕儀以及拉曼光譜儀分析了Ta-C涂層的表面形貌、硬度以及sp3與sp2比例,并選取三個(gè)典型參數(shù)制備Ta-C涂層銑刀進(jìn)行干式銑削2A50鋁合金實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證所選石墨靶濺射時(shí)間制備的Ta-C涂層的優(yōu)劣。結(jié)果表明:隨著石墨靶濺射時(shí)間從40 min到80 min逐漸增加,Ta-C涂層的表面形貌質(zhì)量、硬度、sp3含量以及切削性能呈現(xiàn)先上升后下降的趨勢(shì),石墨靶濺射時(shí)間55 min制備的Ta-C涂層綜合性能最好,硬度達(dá)到86.9 GPa,sp3含量較高。石墨靶不同濺射時(shí)間制備的Ta-C涂層表面形貌、硬度以及sp3與sp2比例有較大差別,選擇合適的濺射時(shí)間制備Ta-C涂層工件至關(guān)重要,本項(xiàng)研究中石墨靶濺射55 min制備的Ta-C涂層綜合性能最優(yōu),使用壽命最長(zhǎng),切削性能最好。